濺射靶材： 濺射靶材按（àn）形狀分類：矩形（xíng）平麵靶材（cái）、圓（yuán）形平麵靶材、圓柱（zhù）靶材

濺射（shè）靶材按成分分類：單（dān）質金屬靶材、合金靶材、陶瓷靶材

平麵靶（bǎ）材利用率比較低（dī），隻有30%左右，沿著環形跑道刻蝕。 

靶材冷卻與靶背板 

1. 靶（bǎ）功率密度與靶材冷卻：靶（bǎ）功（gōng）率越大，濺射（shè）速度越（yuè）大；靶允許的功率與靶材的性（xìng）質及（jí）冷卻有關（guān）；靶材采用直接水（shuǐ）冷，允（yǔn）許的靶功率高。

2. 靶背板 target backplane

使用場合：ITO,SiO2,陶瓷等脆性靶材及燒結靶材Sn(錫）, In（銦（yīn））等軟金屬靶；靶材太薄、靶材太貴

材質（zhì）要求：

導熱性（xìng）好---常用無氧銅，無氧銅的導熱性（xìng）比紫銅好；強度足夠---太薄（báo），容易變形，不易真空密封。 

結構： 

空心或者實心結構---磁鋼不泡或泡在冷水中；厚度適（shì）當---太厚，消耗部分磁強；太薄，容（róng）易（yì）變形。