什麽是PVD 技術 

PVD-物理氣相沉積：指利用物理過（guò）程實現物質轉移（yí），將原子或分子由源轉移到（dào）基材表麵上的過程。

它的作用是可以使某些有特殊性能（強度高、耐（nài）磨性、散熱性、耐腐（fǔ）性等）的微粒噴塗在性能較低的（de）母體上，使（shǐ）得母體具有更好的性能。

PVD基本方法：真空蒸鍍、濺鍍 、離子鍍（空心陰極離子鍍、熱（rè）陰極（jí）離子鍍、電（diàn）弧離子（zǐ）鍍、活性反應離子（zǐ）鍍、射頻離（lí）子鍍、直（zhí）流放電離子鍍）。

PVD 技術是目前國際（jì）上（shàng）科技含量高且被廣泛應（yīng）用的離子鍍膜技術，它具有 鍍膜層致密均勻、附（fù）著力（lì）強、鍍性好、沉積速度快、處理溫度低、可（kě）鍍材料廣泛等特點.

PVD 本身鍍膜過程是高溫狀態下（xià），等離（lí）子場下的輝光反應，亦是一個高淨化（huà）處理過程；鍍層的主要原材（cái）料是以鈦金屬為主，鈦是金屬中最與人體皮膚具親和性能（néng）的，使得PVD 產品本身具備純淨的環保性能。