氣體的分布狀況對於平板基片鍍膜來說是極其重要的，通過機械結（jié）構設計，使（shǐ）氣體密（mì）度的變化率在濺射（shè）沉積區域內的盡量小。

而（ér）在區（qū）域外，使係統的流導盡量的大（dà），以（yǐ）提高氣（qì）體的利用率和抽氣（qì）係（xì）統的效率。

控製氣體分布的機械部件或結構包（bāo）括（kuò）布氣係統、真空室的結構、抽氣係統等三個部分。