濺射（shè）靶材具有高純度（dù）、高密度、多（duō）組元（yuán）、晶粒均勻等特點，一般由靶坯（pī）和背板組成。

靶坯屬於濺射靶材的核心部分（fèn），是高速離子束流轟擊的目標材料。

靶坯被離子撞擊後，其表麵原子被濺射飛散出來並沉積於基板上製成（chéng）電子（zǐ）薄（báo）膜。

由於高純度金屬強度較低，因此濺射靶材需要在高（gāo）電壓、高真空的機台環境內完成（chéng）濺射過（guò）程。

超高純金（jīn）屬的濺射靶坯需要與（yǔ）背板通過不同的焊接（jiē）工藝進行（háng）接合（hé），背板起到（dào）主要起到固定濺射靶材的作（zuò）用，且需要具備（bèi）良好的導電、導熱性（xìng）能。