真空蒸發鍍膜法（簡稱真空蒸鍍法，Vacuum Evaporation) 是指（zhǐ）在一定的（de）真空條件下，利（lì）用高溫（wēn）加熱蒸鍍材料（金屬（shǔ）合金或金屬氧化物）到一定溫度條（tiáo）件下， 

使其原子或分子從表麵汽化逸出，形成蒸汽流，並飛行濺射到玻璃基板表麵凝結形成固態薄膜的方法。

由於真空蒸鍛法的主要物理過程是通過加熱蒸發材料（liào）而產生（shēng），所以又稱熱蒸發法。蒸發源（yuán）作為蒸發（fā）裝置的關（guān）鍵部件，

大多數蒸發材料都要求（qiú）在1000-2000℃的高溫下蒸發。真空蒸鍍法按蒸發源（yuán）的不（bú）同（tóng）可分為電阻法（fǎ）、電子束蒸發法（fǎ）、高頻感（gǎn）應法和激光蒸發法等。