對於真空（kōng）鍍膜機設備的（de）分類，到底了解多少？
真空鍍膜機主要指一類需要在較（jiào）高真（zhēn）空度下進行的鍍（dù）膜設備，包括真空離子蒸發鍍膜機、磁控濺鍍膜機射、
MBE分子束外延鍍膜機和PLD激光濺（jiàn）射沉積鍍膜機等很多種。

主（zhǔ）要是分（fèn）成蒸（zhēng）發和濺射兩種。
在真空鍍膜設備中需要（yào）鍍膜的被成為基片（piàn），鍍的材料被成為靶材。
基片與靶材同在真空腔（qiāng）中。
蒸發鍍膜一般是加熱靶材使（shǐ）表麵組分以原子團（tuán）或離子（zǐ）形式被蒸發（fā）出來，並且沉降在基（jī）片表麵，通過成膜過程形成薄膜。

真空鍍膜（mó）機對於濺射類（lèi）鍍膜，可以簡單理（lǐ）解為利用（yòng）電子或高能激光轟擊靶材，並使表麵組分以原子團或離子（zǐ）形式被濺射出來，
並且最終（zhōng）沉積在基片表麵，經曆成膜過程，最終形成薄（báo）膜。爐體可選擇由不鏽鋼、碳鋼或它們（men）的組合製成的雙層水冷結構（gòu）。

根據工藝要（yào）求選（xuǎn）擇不同規格及類（lèi）型鍍膜設備，其類型有電阻蒸發真空鍍膜設備（bèi）、電子束蒸發真空鍍膜設備、
磁控濺射真（zhēn）空鍍膜設備、離子鍍真（zhēn）空鍍膜設備、磁（cí）控反應濺射真（zhēn）空鍍膜設備、空（kōng）心陰極離子鍍和多（duō）弧離子鍍（dù）等。
夾具（jù）運轉形式有自轉、公轉及公轉+自轉方式，用戶可根據片尺寸及形狀提出相應要求，轉（zhuǎn）動的速度範（fàn）圍及轉動精度：普通可調及變頻調速（sù）等（děng）。