浦元真空帶你了解真空蒸發鍍膜法的概念：

1.基（jī）本原理：真空蒸發鍍膜法（簡稱真空（kōng）蒸鍍）是在真空室中加熱蒸（zhēng）發容器中待形成薄膜的原材料使其原子或分（fèn）子從表麵氣化逸出，形成蒸（zhēng）汽（qì）流入射到固體（稱為襯（chèn）底或（huò）基（jī）片）表麵凝結形成固態薄膜（mó）的方（fāng）法。 

2.真空蒸（zhēng）鍍時尤其是對真空（kōng）環（huán）境（jìng）的（de）要求更嚴格其原因（yīn）有：

A.防止在高溫下因空氣分子和蒸發源發生反應；

B.防止因蒸發物質的分子在鍍膜室內與（yǔ）空氣分子碰撞；

C.防止空（kōng）氣分子作為雜質混入膜內或者在薄膜中形成化合物；

3.設備：真空鍍（dù）膜室和真空抽氣係統兩大部分組成。真空鍍膜室內裝有（yǒu）蒸（zhēng）發源、被（bèi）蒸鍍材料、基片支架及基片等。