磁控濺射鍍膜技術介紹
作者： 來源： 日期：2020-06-08 9:18:10 人氣：16041
磁控濺射鍍膜設備是一（yī）種具有結構簡單、電器控製穩定性好等（děng）優點（diǎn）的真（zhēn）空鍍膜機，其工藝技術的選擇對薄膜的性（xìng）能具有重要影響。
磁控濺射（shè）鍍膜技術在陶瓷表麵裝飾中采用的工藝流程如下：
陶瓷片→超聲（shēng）清洗→裝夾→抽本底真空（kōng）→plasma清洗→加熱→通氬氣→預濺射（shè）→抽本底真空→濺射(或多次濺射)→鍍AF膜→破真空卸片→表（biǎo）麵檢驗→性能測試→包裝、入庫。
以上工藝技術是以磁控濺射鍍膜設備為基礎，選用合適的靶材和濺射工藝（yì），製出超硬的耐磨鍍層，可以實現材（cái）料的高硬度、高耐磨、高耐劃傷特性；
同時，利用NCVM光學膜結構設計，設計出各層不同折射率材料（liào），可以調配出任意顏色，使得陶瓷不僅硬度高、強度高，具備外觀（guān）件時尚、美觀的特點，而（ér）且不會屏蔽電（diàn）磁信號。
磁控濺（jiàn）射鍍膜設備配合NCVM工藝，能夠實現對於陶瓷電子消（xiāo）費品的表麵裝飾處理，在保證陶瓷強度（dù）和（hé）硬度的同時，也（yě）能夠提升其美觀性和藝術性，更好地滿足消費者的個性化需求。
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