真空鍍（dù）膜設備多弧離子（zǐ）鍍膜上的創新方法，所謂多弧離（lí）子鍍膜（mó）就是置待鍍材料和被鍍基板（bǎn）於室內，

真空鍍膜機多弧離子鍍膜采（cǎi）用一定方法加（jiā）熱待鍍（dù）材料（liào），使之蒸發或升華，並飛行濺射到被鍍基板（bǎn）表麵凝聚成（chéng）膜的工藝。

多弧離子鍍膜的方法，在條件（jiàn）下成膜有很多優點，可減少蒸發材料的原子、分子在飛向基板（bǎn）過程中於分子的（de）碰撞，

減少氣體中（zhōng）的活性（xìng）分子和蒸發源材料間的化學反應（如氧化等），以（yǐ）及減（jiǎn）少成膜（mó）過程中氣體分子進入薄膜中成為雜質的量，從而提供膜層的致密度、純度、沉積速率和（hé）與基板的附著力。

真空鍍膜設備多弧離子鍍膜工藝不僅避免了傳統表麵處理的不足（zú），且各項技術指標都優於傳（chuán）統工藝，在（zài）五金、機械、化工、模具、電子、儀器等領域有廣泛應用。

催化液和傳統處理工藝相比（bǐ），在（zài）技術上有哪些創新？

1、多（duō）弧離子鍍膜不用電、降低（dī）了成本、成本僅為多弧離子鍍膜鎳的二分之一，真空鍍膜機多弧（hú）離子鍍膜鉻的三分之一，不鏽鋼的四分之一，可反（fǎn）複（fù）利用，大（dà）大降低了成本。