磁控濺射鍍膜（mó）機有很（hěn）多種（zhǒng）類型，有中頻（pín）的，也有直流的。在生（shēng）活中應用（yòng）也是非常的廣泛，如：手提電腦、手機（jī）殼、電話（huà）、無（wú）線通訊、試聽電子、遙控（kòng）器、醫用工具、表（biǎo）殼、手機殼、五金等。它的（de）優勢也是（shì）非常的凸顯.

　　磁（cí）控濺射鍍膜設備（bèi）配置了等離子體處（chù）理裝置，高效（xiào）磁控濺射陰極和電阻蒸發裝置等，設（shè）備沉積（jī）速率快，鍍層附著力好，鍍層細膩致密，表麵光潔度高，且（qiě）均勻性一（yī）致（zhì）性良好;該機實現（xiàn）鍍膜工藝全（quán）自動化控製，裝載量大，工（gōng）作可靠，合格率高，生產成本低，綠色環保。該設備主要廣泛應用於（yú）電腦殼、手機殼、家用（yòng）電器等行業，可鍍製金屬（shǔ）膜、合（hé）金膜、複合膜層、透明(半透明)膜、不導電膜、EMI電磁屏蔽膜等。

　　磁控濺射鍍膜機將磁控濺射技術和真空蒸發（fā）技術結合在同一真空鍍膜設備裏，既利用磁控濺射陰極輝光放電將靶材原子賤出（chū）並部分離化沉積在基材成膜，同時又可利用在真空中（zhōng）以電阻加熱將金屬鍍料熔融並讓其氣（qì）化再沉積在基材（cái）上成膜（mó），增（zēng）加了設備的用途和靈活性。該設備應用於（yú）手機殼等塑料表麵金屬化，應（yīng）用於不導電膜和電磁屏蔽膜沉積。

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