無論監控儀精度怎樣，它也隻能（néng）控製真空室裏單點位置的膜厚，一般來講是工件架的中間位置。如果（guǒ）真空電鍍設備此位置的膜厚不是絕對均勻的，那麽遠離中（zhōng）心（xīn）位置的基片就無法得到均勻的厚度。雖然（rán）屏蔽罩能消除表現為長期的不均（jun1）勻性，但有些膜厚度的變化（huà）是由蒸發源的不穩定或膜材（cái）的不同表現而引起的，所（suǒ）以幾乎（hū）是不可能消（xiāo）除的，但（dàn）對真空室的結（jié）構和蒸發源的恰（qià）當選擇可以（yǐ）使這些影響最小化。
　　在過（guò）去幾年中，越來越多的（de）用戶要求鍍膜係統製造廠家（jiā）提供高性能的小規格、簡便型光學鍍膜係統，同時（shí），用戶對性能的（de）要求不僅沒有降低，反而有所（suǒ）提高，特別是在薄膜（mó）密度和（hé）保證吸水後（hòu）光譜變化最小化等方（fāng）麵。
　　現（xiàn）在，係統的平均尺寸規格已經在降低，而應用小規格設備進行光學（xué）鍍膜的生產也已經轉變成為純技術問題。因此，選（xuǎn）用現代化光學鍍膜係統的關鍵取決於對以下因素的認真考（kǎo）慮：對鍍（dù）膜產品的預期性能，基片的尺寸大小（xiǎo）和（hé）物理特性以及（jí）保證高度一致性工藝（yì）所必需的所有技（jì）術因素（sù）。

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