真空鍍(dù)膜技術是真(zhēn)空應用技術(shù)的一個重要(yào)分支,它已(yǐ)廣泛地應用(yòng)於光學、電子學、能源開發,理化儀器、建築機械(xiè)、包裝、民用製品、表麵科學以及科(kē)學研究等領域中。真空鍍膜所采用的方法主要有蒸發(fā)鍍、濺射鍍、離(lí)子鍍(dù)、束流沉積鍍以及分子束外延等。此外還有化學氣相沉積法。如果(guǒ)從真空鍍膜(mó)的目的是(shì)為了改變物質表麵的物理、化學性能的(de)話,這一技術又是真空表(biǎo)麵處理技術中的重要組成部分,其分類如表 6 所示(shì)。現就其幾個主(zhǔ)要應用方麵做一簡單介紹。
首先在光學方麵,一塊光學玻璃或(huò)石英(yīng)表麵上鍍一層或幾層不同(tóng)物質(zhì)的薄膜後,即可成為高反射或無反射(即增透膜)或者作任(rèn)何預(yù)期比例的反射或透射材料,也可以作(zuò)成對某種波長的吸收,而(ér)對另一種波長的透射的濾色片。高反射膜從大口徑的天文望(wàng)遠鏡和各種激光器開始、一直到新型建築(zhù)物的大窗(chuāng)鍍膜茉莉(lì),都很需要。增透膜則大量用於照相和各種激光器開始、一直到新型建築物的大窗鍍膜玻璃,都很需要。增透膜則大量用(yòng)於照相機和電視攝象機(jī)的(de)鏡頭上。
在電子學方麵(miàn)真空鍍膜更占有極為重要的地位。各種規模的繼承電路。包括(kuò)存貯器、運算器、告訴邏輯元件(jiàn)等都要采用導(dǎo)電膜、絕緣膜和保護膜。作為製備電路(lù)的掩膜則用到鉻膜。磁帶、磁(cí)盤、半導體激光器(qì),約(yuē)瑟夫遜器件、電荷耦合器件( CCD )也都甬道各(gè)種薄膜(mó)。
在(zài)顯示器件方麵,錄(lù)象磁頭、高密度錄象帶以及平麵顯示裝置的透明導電(diàn)膜(mó)、攝像管光導膜、顯示管熒光屏的鋁襯等也都是采用真空鍍膜法製備。在元件方麵,在真空中蒸發鎳鉻,鉻或金屬陶瓷可以製造電阻,在塑料上(shàng)蒸發鋁、一氧化矽、二氧化鈦等可以製造電容器,蒸發硒可以得到靜電複印機用的硒鼓、蒸發鈦酸鋇可以製造磁(cí)致伸縮的起聲元件等等。真空(kōng)蒸發還可以用於製造超導膜和慣性約束巨變反應用的微珠鍍層。此(cǐ)外還可以對(duì)珠寶、鍾(zhōng)表外殼表麵、紡織品(pǐn)金屬花紋、金絲銀(yín)絲線等蒸鍍裝飾用薄膜,以及采用濺射鍍或離子鍍(dù)對刀具、模具等製造超(chāo)硬膜。近兩年內所興起的多弧離子鍍製備鈦金製品,如(rú)不鏽(xiù)鋼薄板、鏡麵板、包柱、扶手、高檔床托(tuō)架、樓梯欄杆等目前(qián)正在盛行。