真空鍍膜機主要指一(yī)類需要在(zài)較高真空度下進(jìn)行的鍍膜,具(jù)體包括很(hěn)多種類(lèi),包括真空離子蒸發,磁控濺射,MBE分(fèn)子束外延,PLD激光濺射沉積等很多種。今天,昆山浦元真空技術工程有限公司為您介紹以下幾種鍍(dù)膜機工作原理:
一、空心陰極離子鍍原理
在本底真空為高真空(kōng)的條件下(xià),由陰極中通入氬器氣(1-10-2)在陰極與輔助陽極之間加上引弧電壓,使氬氣發生輝(huī)光放電,在空心(xīn)陰極內產生(shēng)低壓等離子體放電,陰(yīn)極溫度升高到2300-2400K時,由(yóu)冷陰(yīn)極放電轉為熱陰極放電,開始熱電子(zǐ)發射,放電(diàn)轉為(wéi)穩定狀態。通入反應氣體,可以(yǐ)製化合膜。
二(èr)、測(cè)控濺射工作原理
先將真空室預抽至10-3Pa,然後通入氣體(如(rú)氬氣),氣壓(yā)為1-10 Pa時,給靶加負電壓,產生輝光放電,電子在電場正作用下加速(sù)飛向基片時,與氬原子碰撞,電離出Ar和另一個電子;轟擊靶材,由二次電子電離的 越來越多,不斷轟擊靶材;磁場改(gǎi)變電子的運動方向,以電磁場(chǎng)束縛和延長電子(zǐ)的運動軌跡,從(cóng)而(ér)提高電子對工作氣體的電離幾率。
三、多弧離子鍍工作原理
其工作原理為冷陰極自持(chí)弧光放電(diàn),其物理(lǐ)基礎為場致發射。被鍍材料接陰極(jí),真(zhēn)空室接陽極,真空室抽(chōu)為高(gāo)真空時,引發電極啟(qǐ)動器,接觸拉開,此時,陰極與陽極之間形(xíng)成穩(wěn)定的電弧放電,陰極表(biǎo)麵布滿飛速遊動的(de)陰極斑(bān),部分離子(zǐ)對陰極斑(bān)的轟擊(jī)使其變成點蒸發源,以若幹個電弧蒸發源為核心的為多弧離子鍍。
四、電阻蒸發式鍍膜機
膜材即要鍍的材料放於蒸發(fā)舟中,置於真空室(shì)中,抽到(dào)一定真空時,通過電阻加熱膜材,使(shǐ)其蒸發,當蒸(zhēng)發分子的平均自由程(chéng)大(dà)於蒸發源至基片的線性尺寸時,原子和分(fèn)子從蒸發源中逸出後,到達基片(piàn)形成膜。為了使膜厚均勻,可(kě)以利用電機(jī)帶動基片旋轉(zhuǎn),並用膜厚儀控製膜厚,製出優(yōu)質膜。
五、E型(xíng)槍工(gōng)作原理
陰(yīn)極(jí)燈絲加熱後發射具有0.3 EV初動能(néng)的熱電子,這些熱電子在燈絲陰極與陽極之(zhī)間的(de)電場作用下加速並會聚(jù)成束狀。在電磁線圈(quān)的磁場中,電子束沿E x B的方向偏(piān)轉,通過陰極時,電(diàn)子的能量提高到10KV,通過陽極電子偏轉270度角而入射坩堝內的膜材表麵上,轟擊膜材使其蒸發。
六、PCVD鍍膜工作原理
將被鍍件放(fàng)在低壓(yā)輝光放電(diàn)的陰極上,通入適當氣(qì)體,在一定溫度下,利用化學反應和離子轟擊相結合的過程,在工件表麵獲得塗層。
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