CJ係（xì）列磁控（kòng）濺（jiàn）射真空鍍膜機（jī）的磁控濺射工（gōng）作原理，所謂“濺射”就（jiù）是用荷（hé）能（néng）粒子（通常用氣體正（zhèng）離子）轟擊物（wù）體，從（cóng）而引（yǐn）起物（wù）體（tǐ）表麵原子從（cóng）母體中逸出的現象。早在1842年Grove在實（shí）驗室中就發現了這種現象。磁控濺射靶采用靜止電磁場，磁場為曲線形，均勻電場和（hé）對數電場則分別用於平麵靶和同（tóng）軸圓柱靶。電子（zǐ）在電場作用下，加速飛向基片的過程中與（yǔ）氬原子發生碰撞。若電子具有足（zú）夠的能量（約為30ev）時，則電離出Ar+並產生電子，電子飛向基片，Ar+在電場作用下，加速飛向陰極（濺射靶）並以高能量轟擊靶表麵，使靶材（cái）發生濺射。 

廣泛（fàn）應（yīng）用於家電（diàn）電器、鍾表、高爾夫球頭、工藝美術品、玩具、車燈反光罩、手機按鍵外殼以及儀（yí）器儀表、塑料、玻璃、陶（táo）瓷、磁磚等表麵裝飾性鍍膜及工模具的功能塗層，在鍍製超黑膜、純金裝飾膜、導電膜等領（lǐng）域有優勢。

1）、膜厚（hòu）可控性和重複性好。能夠可靠的鍍製預定厚度的薄膜，並且濺射鍍膜（mó）可以在（zài）較大的表麵上（shàng）獲得（dé）厚度（dù）均勻的膜層；
2）、薄膜與基片的附著力強。部分（fèn）高能量的濺射原子產生不同程度的注入現象，在基片上形成一層濺射原子與基片原子相互溶合（hé）的偽擴散層；
3）、製備特殊材料的薄膜，可以使用不同的材料同（tóng）時濺（jiàn）射製備混合膜、化合膜，還可濺射成TiN仿金膜；
4）、膜層純度（dù）高（gāo），濺射膜層（céng）中不會（huì）混入坩（gān）鍋加熱器材料的成份。
5 )、裝備低溫離子輔助（zhù）源，無需加熱直接常溫冷鍍成膜，節能省電（diàn），提高產能。