工作原理可分為：電阻加熱蒸發（fā）真空卷繞鍍膜設備；感應加熱（rè）蒸發真（zhēn）空卷繞鍍膜設備；電子（zǐ）束加熱蒸發真空卷繞鍍膜設備；磁控濺射真空卷繞鍍（dù）膜設備等。其中電子束加（jiā）熱真空卷繞鍍膜設備用於大量蒸鍍高熔（róng）點物質如（rú）Si02.而磁控濺射原理的卷（juàn）繞鍍膜設（shè）備（bèi）生產效率較低，但具有鍍（dù）膜適應範圍寬膜層附著牢的優點。

1、CJRW係列主要應用在（zài）柔（róu）性線路板、ITO透明導電膜、薄膜電容、汽車貼膜、薄膜太陽能電池、柔性太陽能電池等方麵。采用磁控濺射鍍膜技（jì）術，配備直流、中頻或射頻磁控（kòng）濺射係統，適合鍍製金屬（shǔ）膜、導電膜、合計膜、介質膜等。 
2、SFRW係列采用電子束蒸發鍍膜技術，適合在PET、PVC、PI、CPP等薄膜表麵鍍製透明高阻包裝膜、防偽膜、幻彩膜、光學膜（mó）、介質膜等。
3、ZFRW係列主要應用在印刷包裝膜、包（bāo）裝紙、金銀線（xiàn）、電容膜、功能薄膜等方（fāng）麵（miàn）。設備采（cǎi）用先進的高頻感應蒸發或者連續送絲蒸發等技術，整個過程全（quán）自動控製（zhì）。