GSF係列高精密電子束蒸發光學真空鍍膜機
日期:2016-01-13 10:18:51 人氣:24000
GSF高(gāo)精密電子束(shù)蒸發光學真空鍍膜(mó)機的工作原理是將膜材放入水冷銅坩堝中,直接利用電子束加熱,使膜材(cái)中的(de)原子或分子從表麵汽化逸出後入射(shè)到基片(piàn)表麵(miàn)凝(níng)結成膜。電子束蒸發比一般電阻加熱蒸發熱效(xiào)率高、束流密度(dù)大、蒸發(fā)速度快(kuài),製成的薄膜純度高。
光學鍍膜設備可鍍製層數較多的短波通、長波通、增透膜、反射膜(mó)、濾光膜、分光膜、帶通膜、介質膜、高反膜、彩色反射膜(mó)等各種膜(mó)係,能夠實現0-90層膜的膜係鍍(dù)膜,也能滿足如汽(qì)車反光玻璃、望遠鏡、眼鏡片、光學鏡頭、冷(lěng)光杯等產品的鍍(dù)膜要求。配置不同(tóng)的蒸發源(yuán)、電子槍和離子源及膜厚儀(yí)可鍍多種膜(mó)係,對金(jīn)屬、氧化物、化(huà)合物及其(qí)他高熔(róng)點膜材皆可蒸鍍。
1)、高(gāo)精密光學鍍膜機配備有石英晶體膜厚儀、光學膜(mó)厚自動(dòng)控製係統,采用PLC與工業(yè)電腦配合(hé)自主研發的PY3100係統聯合實現對整個工作過程的全(quán)自動控製,可以實現無人值守,從而提(tí)高了工作(zuò)效率和保(bǎo)證產品質量的一(yī)致性和穩定性。
2)、大抽速真(zhēn)空係統加配深冷裝置(zhì),優秀的動態真空能力,為複雜的光學膜係製備提供了必要的真空條件保障。
3)、蒸發分布穩定、性(xìng)能可靠的E型電(diàn)子槍,優化設計的蒸發源與工件架之間的位置關係,為精密膜(mó)係的實現調工了膜料蒸發分布方麵的保障。
4)、平穩而高速(sù)旋轉(zhuǎn)的工件架轉(zhuǎn)動係統,使工件架內外圈(quān)產品光譜曲線更(gèng)趨於一致。
5)、適用於光學領域行業,大規模(mó)工業生產高端要求的廠商使用。
GSF高精密電子束蒸發光學真空鍍膜機 |
型號 | GSF-800 | GSF-1200 | GSF-1400 | GSF-1600 | GSFW-1000 | GSFW-1200 | GSFW-1600 |
真空室尺(chǐ)寸 | Φ800×1000MM | Φ1200×1400MM | Φ1400×1600MM | Φ1600×1800MM | Φ1000×1100MM | Φ1200×1400MM | Φ1600×1800MM |
真空機組 | KT400擴(kuò)散(sàn)泵機組 | KT630擴(kuò)散泵機組 | 雙(shuāng)KT630擴散泵機組 | 雙KT630擴散泵機組 | KT500擴散泵機組 | KT630擴散泵機組 | 雙KT630擴散泵機組 |
鍍膜係統 | 電子槍蒸發源、鍍膜輔助離子專用電源或霍爾離子源 |
充(chōng)氣係統 | 壓(yā)強控製儀 |
控製方式 | 半自動或全自動 |
膜厚(hòu)監控係統 | 石(shí)英晶體膜厚監控係(xì)統、光學膜厚監控係統 |
抽氣速率 | 5×10-3Pa﹤15min | 5×10-3Pa﹤15min | 5×10-3Pa﹤15min | 5×10-3Pa﹤15min | 5×10-3Pa﹤15min | 5×10-3Pa﹤15min | 5×10-3Pa﹤15min |
極限(xiàn)真空 | 3.0X10-4Pa | 3.0X10-4Pa | 3.0X10-4Pa | 3.0X10-4Pa | 3.0X10-4Pa | 3.0X10-4Pa | 3.0X10-4Pa |
備注 | 以上設備參數僅做參考,具體均按客戶實(shí)際工藝要求設計訂做 |