如何掌控真空鍍膜的均勻性
麻豆app下载入口先來（lái）認識下怎麽調試鍍膜機，因為掌握調試鍍膜機是使用鍍膜機的關鍵怎麽調試鍍膜（mó）機
1、測試設備的抽真空（kōng）速度，在測試過程中檢（jiǎn）查（chá）漏氣情況與各真空泵（bèng）的性能；
2、測試設備的（de）密封性能，就（jiù）是抽到極限後保壓1小時看壓降是否達標，同時排除（chú）細小的漏孔；
3、產品試（shì）作，檢驗其他（tā）的性能，比如傳動、加熱、絕（jué）緣等等；
4、如（rú）果有（yǒu）工藝保證的話就（jiù）繼續打樣並作測試。
5、所有的測試應作記錄，並有記錄（lù）人簽字以及有使用部門或工程部門的人確認（rèn）簽字

怎麽掌控真（zhēn）空鍍膜的均勻性？
由於車燈鍍膜機原（yuán）理的不同分為很多（duō）種類，僅僅（jǐn）因為都需要高真空度而擁有（yǒu）統一名稱。所以對於不同原理的真空鍍膜，影響均勻性（xìng）的因素也不（bú）盡（jìn）相同。並且均（jun1）勻性這個概（gài）念本身也會隨著鍍膜（mó）尺度和薄膜成（chéng）分而有著不同的意義，下麵分別說一下：

均勻性主要體現在3方麵：
1、厚度上的均勻性（xìng），也可以理解為粗糙度，在光學薄膜的尺度上看（也就是1/10波長作為單位，約為100A），真空鍍膜的均勻（yún）性已經相當好，可以輕（qīng）鬆將粗糙度控製在可見光（guāng）波長的（de）1/10範圍內，也就是（shì）說對於多弧離子鍍膜（mó）機的光學特（tè）性來說（shuō），真空鍍膜沒有任何障礙。但是如（rú）果是指原子層尺度上的均勻度，也就（jiù）是說要實現10A甚至1A的表麵平整，是現在真空鍍膜（mó）中主（zhǔ）要的（de）技（jì）術含量與技術瓶頸所在。
2、化學（xué）組分上（shàng）的均（jun1）勻性：就（jiù）是說在薄膜中，化合物的原子組分會由於尺度過小而很容易（yì）的產生（shēng）不均勻特性（xìng），SiTiO3薄膜，如果濺控濺（jiàn）射鍍膜機過程不科學，那麽實際表麵的組分並不是SiTiO3，而（ér）可能是其他的（de）比（bǐ）例，鍍的膜（mó）並非是想要的膜的化學成分，這也是真空鍍膜的技（jì）術含量所在。
3、晶格有序度的均勻性：這決定了（le）薄膜是單晶，多（duō）晶，非晶，是真（zhēn）空（kōng）鍍膜技術中（zhōng）的熱點問題。 

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